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專利狀態(tài)
電鍍金鍍液及其應(yīng)用
有效
專利申請(qǐng)進(jìn)度
申請(qǐng)
2022-12-29
申請(qǐng)公布
2023-06-09
授權(quán)
2024-03-26
預(yù)估到期
2042-12-29
專利基礎(chǔ)信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202211706098.3 申請(qǐng)日 2022-12-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN116240597A 申請(qǐng)公布日 2023-06-09
授權(quán)公布號(hào) CN116240597B 授權(quán)公告日 2024-03-26
分類號(hào) C25D3/48;C25D7/12
分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
申請(qǐng)人名稱 華為技術(shù)有限公司
申請(qǐng)人地址 廣東省深圳市龍崗區(qū)坂田華為總部辦公樓
專利法律狀態(tài)
  • 2024-03-26
    授權(quán)
    狀態(tài)信息
    授權(quán)
  • 2023-06-09
    公布
    狀態(tài)信息
    公布
摘要
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種電鍍金鍍液，包括：作為金源的氰化亞金鹽、草酸鹽、含鉛化合物、水溶性多糖類物質(zhì)和有機(jī)酸傳導(dǎo)介質(zhì)；其中，有機(jī)酸傳導(dǎo)介質(zhì)包括有機(jī)膦酸或其鹽。在所述有機(jī)酸傳導(dǎo)介質(zhì)與其他組分的協(xié)同配合下，可以保證該鍍液的電傳導(dǎo)速率較高、電鍍所得金凸塊的表面平整度高及熱處理后硬度高，特別適合小間距的半導(dǎo)體基片與基板之間的可靠互連。本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了上述電鍍金鍍液的相關(guān)應(yīng)用。