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專利狀態(tài)
一種防磁性能測(cè)試裝置及其加磁結(jié)構(gòu)
有效
專利申請(qǐng)進(jìn)度
申請(qǐng)
2017-09-12
申請(qǐng)公布
2017-12-26
授權(quán)
2023-04-25
預(yù)估到期
2037-09-12
專利基礎(chǔ)信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201710825521.4 申請(qǐng)日 2017-09-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN107515525A 申請(qǐng)公布日 2017-12-26
授權(quán)公布號(hào) CN107515525B 授權(quán)公告日 2023-04-25
分類號(hào) G04D7/00
分類 測(cè)時(shí)學(xué);
申請(qǐng)人名稱 飛亞達(dá)精密科技股份有限公司
申請(qǐng)人地址 廣東省深圳市南山區(qū)高新南一道飛亞達(dá)科技大廈
專利法律狀態(tài)
  • 2023-04-25
    授權(quán)
    狀態(tài)信息
    授權(quán)
  • 2020-06-02
    著錄事項(xiàng)變更
    狀態(tài)信息
    著錄事項(xiàng)變更；IPC(主分類):G04D7/00；專利申請(qǐng)?zhí)?2017108255214；變更事項(xiàng):申請(qǐng)人；變更前:飛亞達(dá)(集團(tuán))股份有限公司；變更后:飛亞達(dá)精密科技股份有限公司；變更事項(xiàng):地址；變更前:518034 廣東省深圳市南山區(qū)高新南一道飛亞達(dá)科技大廈；變更后:518000 廣東省深圳市南山區(qū)高新南一道飛亞達(dá)科技大廈；變更事項(xiàng):申請(qǐng)人；變更前:深圳市飛亞達(dá)精密科技有限公司；變更后:深圳市飛亞達(dá)精密科技有限公司
  • 2020-01-24
    著錄事項(xiàng)變更
    狀態(tài)信息
    著錄事項(xiàng)變更；IPC(主分類):G04D7/00；專利申請(qǐng)?zhí)?2017108255214；變更事項(xiàng):申請(qǐng)人；變更前:飛亞達(dá)(集團(tuán))股份有限公司；變更后:飛亞達(dá)(集團(tuán))股份有限公司；變更事項(xiàng):地址；變更前:518034 廣東省深圳市南山區(qū)高新南一道飛亞達(dá)科技大廈；變更后:518034 廣東省深圳市南山區(qū)高新南一道飛亞達(dá)科技大廈；變更事項(xiàng):申請(qǐng)人；變更前:深圳市飛亞達(dá)精密計(jì)時(shí)制造有限公司；變更后:深圳市飛亞達(dá)精密科技有限公司
  • 2018-01-19
    實(shí)質(zhì)審查的生效
    狀態(tài)信息
    實(shí)質(zhì)審查的生效；IPC(主分類):G04D7/00；專利申請(qǐng)?zhí)?2017108255214；申請(qǐng)日:20170912
  • 2017-12-26
    發(fā)明專利申請(qǐng)公布
    狀態(tài)信息
    公布
摘要
本發(fā)明提出了一種防磁性能測(cè)試裝置及其加磁結(jié)構(gòu)；所述加磁結(jié)構(gòu)包括環(huán)形軛鐵（1）、分別設(shè)置在軛鐵（1）相對(duì)的兩內(nèi)側(cè)面上的兩極柱（2）、繞設(shè)在極柱（2）上的線圈（3）以及用于給線圈（3）通電以產(chǎn)生磁場(chǎng)的電源；兩極柱（2）相對(duì)設(shè)置，并間隔出用于設(shè)置樣品的間隙；軛鐵（1）的徑向截面面積與極柱（2）的徑向截面面積的比例為（1.2?1.4）：1。本發(fā)明的防磁性能測(cè)試裝置及其加磁結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)巧妙，實(shí)用性強(qiáng)。